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API臭氧儀和ADEV微量氧分析儀在半導(dǎo)體清洗設(shè)備行業(yè)的技術(shù)參數(shù)。|埃登威自動(dòng)化系統(tǒng)設(shè)備（上海）有限公司

API臭氧儀和ADEV微量氧分析儀在半導(dǎo)體清洗設(shè)備行業(yè)的技術(shù)參數(shù)。



現(xiàn)在，中國已經(jīng)成為世界上*大的電子產(chǎn)品消費(fèi)市場(chǎng)，對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)品的需求量很大。在2019年，中國大陸半導(dǎo)體銷售占到了全球的35%，并且銷售增長(zhǎng)速度持續(xù)高于國際市場(chǎng)，中國已成為世界上*有活力、*有發(fā)展前景的半導(dǎo)體市場(chǎng)。自2019年四季度以來，全球半導(dǎo)體行業(yè)逐步復(fù)蘇，各行業(yè)開啟了新一輪補(bǔ)庫存周期，因此，2020年一季度國內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)表現(xiàn)較好，1月、2月份半導(dǎo)體銷售額分別同比增長(zhǎng)5.2%、5.5%，今年一季度集成電路產(chǎn)量比去年同期增長(zhǎng)了16%。



由于晶圓廠投資的增加，國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備的需求急劇上升。在2019年，中國內(nèi)地銷售總額達(dá)134.5億美元，占全球市場(chǎng)的22.5%，是世界**大半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)。而在國內(nèi)設(shè)備市場(chǎng)上，臺(tái)積電、英特爾、三星、SK海力士等大陸廠商的設(shè)備需求約占到50%，所以大陸地區(qū)的晶片廠所需設(shè)備占到約11%。半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)上清潔設(shè)備的價(jià)值約占5-6%。與光刻、蝕刻等核心設(shè)備相比，其價(jià)值較低，技術(shù)門檻較低。據(jù)智慧型研究咨詢公司發(fā)布的《2020-2026年中國半導(dǎo)體清潔設(shè)備產(chǎn)業(yè)市場(chǎng)管理及競(jìng)爭(zhēng)戰(zhàn)略建議報(bào)告》顯示，2015年全球半導(dǎo)體清潔設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模達(dá)26億美元，預(yù)計(jì)2020年達(dá)37億美元，復(fù)合增長(zhǎng)率7%。據(jù)估計(jì)，中國大陸地區(qū)每年濕法清洗設(shè)備的投資約為15-20億美元，到2023年國產(chǎn)化率可達(dá)到40%-50%，也就是說，國產(chǎn)設(shè)備的市場(chǎng)空間在40-70億元之間，而未來12英寸晶圓片的槽式和單片清洗設(shè)備將是市場(chǎng)增長(zhǎng)的主要?jiǎng)恿Α纹角逑礄C(jī)領(lǐng)域的公司有望成為少數(shù)具有核心技術(shù)的國內(nèi)設(shè)備制造商。API臭氧儀和ADEV微氧分析儀技術(shù)參數(shù)清洗是半導(dǎo)體工藝的重要環(huán)節(jié)，是影響設(shè)備成品率和可靠性的*重要因素之一。為減少雜質(zhì)對(duì)晶片良率的影響，在實(shí)際生產(chǎn)中不僅要提高單清洗效率，而且?guī)缀趺總€(gè)工序都要經(jīng)常清洗，清洗工序占工序的三分之一左右。IC工藝升級(jí)，清洗環(huán)節(jié)的重要性日益突出。隨著半導(dǎo)體晶片加工技術(shù)的發(fā)展，工藝技術(shù)結(jié)點(diǎn)已經(jīng)達(dá)到了28.14納米等更高水平，流程不斷延長(zhǎng)，產(chǎn)品的成材率也會(huì)相應(yīng)下降。導(dǎo)致這一現(xiàn)象的原因之一是先進(jìn)工藝對(duì)雜質(zhì)的敏感程度較高，難以有效地**小顆粒污染物。而解決方案則主要是增加清洗步驟，使晶片清洗更為復(fù)雜，重要性和挑戰(zhàn)性。根據(jù)清洗原理，清洗設(shè)備可以分為干式清洗機(jī)和濕式清洗機(jī)。濕法處理是指使用一種具有強(qiáng)烈腐蝕性或氧化作用的溶劑噴射或擦洗，使硅中的雜質(zhì)與溶劑發(fā)生化學(xué)反應(yīng)而產(chǎn)生可溶性物質(zhì)或氣體，從而**晶圓上顯示的顆?；蚱渌饘匐x子。干式清洗是指無需使用化學(xué)試劑的清洗技術(shù)，包括等離子清洗，氣體清洗等。兩種清洗方法在實(shí)際生產(chǎn)過程中一般采用，目前90%以上的清洗工序是以濕法設(shè)備為主，少數(shù)特殊場(chǎng)所采用干法清洗，以提高清洗效率。濕法清洗設(shè)備主要生產(chǎn)純科技。目前，中國市場(chǎng)的主要濕法設(shè)備制造商主要是日本和歐洲和美國。當(dāng)?shù)卦O(shè)備制造商主要包括純科技、北方華創(chuàng)和盛美半導(dǎo)體，但三家公司的總市場(chǎng)份額不到10%。目前，盛美半導(dǎo)體的主要產(chǎn)品是單片清洗設(shè)備，純技術(shù)單片清洗設(shè)備正處于客戶驗(yàn)證階段。目前，北方華創(chuàng)和純技術(shù)仍以槽清洗為主，三大核心產(chǎn)品不同，積極競(jìng)爭(zhēng)較少。半導(dǎo)體清洗設(shè)備行業(yè)市場(chǎng)容量API臭氧儀與ADEV微量氧分析儀技術(shù)參數(shù)中國國內(nèi)的半導(dǎo)體清洗設(shè)備的主要廠家有三家，體量都不大，分別是盛美半導(dǎo)體，北方華創(chuàng)和至純科技。盛美股份2019年收入為7.57億元，凈利潤(rùn)為1.35億元。該產(chǎn)品以單片清洗為主，占總收入的72.81%，槽式清洗機(jī)占總收入的6%。北方華創(chuàng)主要清洗設(shè)備產(chǎn)品為單片及槽式清洗設(shè)備，可適用于技術(shù)節(jié)點(diǎn)為65nm、28nm工藝的芯片制造。其中，北方華創(chuàng)自有低端的單片清洗設(shè)備，并通過收購美國Akrion實(shí)現(xiàn)了槽式清洗設(shè)備的國產(chǎn)化。北方華創(chuàng)2019年收入40.58億元，凈利潤(rùn)3.09億元。清洗機(jī)業(yè)務(wù)大約占比北方華創(chuàng)總收入的5%左右。在國內(nèi)單片式半導(dǎo)體清洗行業(yè)中，盛美半導(dǎo)體市占率*高。產(chǎn)品系列*豐富，技術(shù)優(yōu)勢(shì)明顯。其SAPS、TEBO技術(shù)使兆聲波能量均勻分布在晶圓上，避免其對(duì)晶圓電路的損害，同時(shí)又提高了清洗效果。北華和至純科技主要是用槽式清洗，到了純科技的單片清洗設(shè)備正處于客戶驗(yàn)證階段，目前三個(gè)核心產(chǎn)品都有差異，正面競(jìng)爭(zhēng)不多。純化技術(shù)是單片清洗機(jī)的后進(jìn)者，但技術(shù)力量雄厚。目前，在國內(nèi)市場(chǎng)上，晶圓OEM的主要生產(chǎn)線仍集中在14nm以上，純技術(shù)剛剛進(jìn)入單片領(lǐng)域，主要是定制個(gè)性化單片清洗設(shè)備，足以滿足OEM的需求。470水中臭氧傳感器是*先進(jìn)的溶解臭氧測(cè)量模塊，為半導(dǎo)體濕法處理和許多其他工業(yè)過程設(shè)計(jì)。它能夠提供去離子水或硫酸中濃度高達(dá)150mg/L的溶解臭氧測(cè)量。470已經(jīng)完成了準(zhǔn)備清洗，可以滿足高純度半導(dǎo)體過程的需要，可以簡(jiǎn)單地拼接到任何濕處理的環(huán)流回路中，*高支持150SLPM的流量。470型傳感器使用雙路取樣傳感技術(shù)，達(dá)到了無與倫的性能，且擺脫了對(duì)參比液體測(cè)量的需求。常規(guī)安裝只包括470傳感器和Terminon7包的內(nèi)部連接電纜。470傳感器能夠通過模擬或數(shù)字信號(hào)向濕法處理過程控制臺(tái)遠(yuǎn)程報(bào)告測(cè)量的濃度。



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