ADEV微量氧分析儀露點(diǎn)儀氫氣分析儀為浮法玻璃工藝提供**測量方案
浮法玻璃工藝通常采用氨分解制氫工藝，氨分解制氫爐往往由以工業(yè)氨氣為原料，在催化劑作用下，加熱分解到含75％h2和25％n2的氫氮混合氣體。然后經(jīng)過純化器后的混合氣，一般要求殘氨含量小于2ppm，露點(diǎn)可達(dá)-70℃，微量氧含量小于3ppm。
用戶可以用液氨鋼瓶或液氨儲槽來提供氨源。當(dāng)液氨經(jīng)過氨汽化器后，成為了壓力穩(wěn)定的氣態(tài)氨，通常氨氣經(jīng)過減壓閥后，就可直接進(jìn)入氨分解爐進(jìn)行分解，分解后可以得到氫氮混合氣?；旌蠚夥赵俳?jīng)過熱交換器和水冷卻，并由流量控制后，進(jìn)行純化的處理。氨分解制氫爐是由加熱元件部分、溫度控制部分和分解爐膽部分組成；加熱元件一般由低瓦密度的鎳鉻合金作為加熱元件，為了確保長久的使用期，通常采用真空吸濾成型的耐火纖維進(jìn)行保溫，以確保絕熱質(zhì)量,u型分解爐膽會采用耐腐蝕高鎳合金制作，并在內(nèi)部裝有鎳催化劑。純化裝置則主要有除氧器（對氣氛含氧量有特殊要求的客戶選用）、分子篩附干燥器和閥門組、冷卻器、電氣控制等組成。純化裝置系統(tǒng)具有兩只分子篩吸附干燥器，兩只分子篩吸附干燥器可以循環(huán)使用，當(dāng)其中一只在吸附雜質(zhì)時(shí)，另一只正在脫附排放雜質(zhì)。當(dāng)分子篩吸附脫除氣體中的水和殘氨后，要求氣體中的雜質(zhì)含量均小于1ppm。ADEV微量氧分析儀露點(diǎn)儀氫氣分析儀為浮法玻璃工藝提供**測量方案
浮法玻璃保護(hù)氣氛是通過氨氣分解生產(chǎn)N2+H2，或通過匯流排再混合氣體后面，進(jìn)入錫槽前測量氣體中的微量氧氣含量、水含量即露點(diǎn)及氫氣含量等，如果氧氣含量過大，會引起錫槽上玻璃產(chǎn)生氣泡，從而影響玻璃質(zhì)量，也需要防止氧氣和錫發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，導(dǎo)致生產(chǎn)成本的過度升高。
采用ADEV防爆微量氧分析儀OxyTrend和防爆氫氣分析儀8866-EX對進(jìn)入錫槽前氣體進(jìn)行測量，可以有效的保證浮法玻璃工藝的玻璃質(zhì)量。
OxyTrend防爆微量氧分析儀技術(shù)參數(shù)：
測量原理：電化學(xué)氧傳感器
微量氧含量量程范圍：0-10、100、1000、10000ppm、25%,和0-100%量程自動(dòng)或者手動(dòng)調(diào)節(jié)ADEV微量氧分析儀露點(diǎn)儀氫氣分析儀為浮法玻璃工藝提供**測量方案
微量氧分析儀應(yīng) 用：對惰性氣體，碳?xì)錃怏w，He，CO2，H2中的氧含量進(jìn)行PPM分析 ,是測量H2 ，N2 ，乙炔， 乙烯，丁二烯，Ar ，He ，CO2 ，CnHm 及其它氣體中氧含量的理想儀器。
報(bào) 警：具有2路繼電器報(bào)警輸出
標(biāo) 定：可以使用濃度大約為80%量程經(jīng)過認(rèn)證的標(biāo)準(zhǔn)氣體
補(bǔ) 償：壓力和溫度補(bǔ)償
接 口：1/4"接頭或1/8英寸卡套
顯 示：觸摸屏液晶背光顯示；分辨率：0.01ppm；
防爆氫氣分析儀8866-EX技術(shù)參數(shù)：
測量原理：熱導(dǎo)法
量程：0-1%、0-2%、0-5%、0-10%、0-15%、0-20%、0-30%、0-40%、0-75% ；0-100%、80-100%、95-100%、98-100%H2\He\CH4\HC等
精度：±1%FS
重復(fù)性 ≤0.3%
線性誤差 ≤1% FSADEV微量氧分析儀露點(diǎn)儀氫氣分析儀為浮法玻璃工藝提供**測量方案
相應(yīng)時(shí)間 ：
H2反應(yīng)< 1秒;60%--13s;90%--24s;99%--40s;;CO2反應(yīng)< 2秒;
60%--23s;90%--45s;99%--80s
流量：100mL--2L/MIN
樣氣接口：1/4"或6mm卡套接口
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