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ADEV激光氧氣分析系統(tǒng)在雙氧水生產(chǎn)裝置中的革新應(yīng)用|埃登威自動化系統(tǒng)設(shè)備（上海）有限公司

ADEV激光氧氣分析系統(tǒng)在雙氧水生產(chǎn)裝置中的革新應(yīng)用

在蒽醌法雙氧水生產(chǎn)工藝中，氫化反應(yīng)單元與氧化反應(yīng)單元作為核心環(huán)節(jié)，不僅關(guān)乎產(chǎn)品質(zhì)量的優(yōu)劣，更是**生產(chǎn)的重中之重。這兩個單元由于涉及氫氣、過氧化氫等高風(fēng)險物質(zhì)，極易發(fā)生氫氣閃爆、過氧化氫分解爆炸以及芳烴燃燒等**事故，加之反應(yīng)過程中的失控風(fēng)險，使得**監(jiān)測顯得尤為重要。其中，有效的氧含量檢測不僅能為雙氧水生產(chǎn)提供可靠的質(zhì)量與效率保障，更是預(yù)防**事故的關(guān)鍵手段。

針對雙氧水生產(chǎn)裝置的關(guān)鍵監(jiān)測點，我們進(jìn)行了詳盡的布局：ADEV激光氧氣分析系統(tǒng)在雙氧水生產(chǎn)裝置中的革新應(yīng)用

  1. 氫氣總管含氧量監(jiān)測：在氫化單元啟動前，需使用氮氣對涉氫管道及設(shè)備系統(tǒng)進(jìn)行置換，確保氧氣濃度低于2%（體積分?jǐn)?shù)）。為此，我們設(shè)置了氫氣氧含量檢測儀，從源頭嚴(yán)控氧含量，預(yù)防超標(biāo)風(fēng)險。

  2. 氫化尾氣含氧量監(jiān)測：為防止工作液中的微量過氧化氫被夾帶到氫化塔內(nèi)分解引發(fā)爆炸，我們監(jiān)測尾氣中的氧含量，確保其濃度同樣低于2%（體積分?jǐn)?shù)）。

  3. 氫化塔頂含氧量監(jiān)測：塔頂出口氧含量過高存在閃爆風(fēng)險，因此，我們同樣將尾氣氧含量控制在2%（體積分?jǐn)?shù)）以下。

  4. 氧化尾氣氧含量監(jiān)測：氧化塔或氫化塔頂部出口管線中氣體的氧含量直接反映了氧化反應(yīng)的充分程度。氧含量過高意味著反應(yīng)不充分，且可能與工作液中的重芳烴形成混合爆炸物，引發(fā)裝置爆炸。因此，氧含量的**檢測在生產(chǎn)過程中具有決定性意義。

傳統(tǒng)上，國內(nèi)雙氧水裝置多采用磁壓力式氧分析儀進(jìn)行氧化塔頂氧含量的檢測。然而，這種分析儀易受灰塵、固體粒子及凝液的影響，需設(shè)置復(fù)雜的氣體預(yù)處理系統(tǒng)，不僅影響測量響應(yīng)速度，還增加了維護(hù)費用。ADEV激光氧氣分析系統(tǒng)在雙氧水生產(chǎn)裝置中的革新應(yīng)用

相比之下，ADEV激光氧氣分析系統(tǒng)基于TDLAS技術(shù)原理，具有顯著優(yōu)勢。該系統(tǒng)不受其他介質(zhì)干擾，無論原位還是取樣測量，均表現(xiàn)出響應(yīng)速度快、測量精度高、維護(hù)方便等特點。在某化工廠20萬噸雙氧水裝置中，ADEV激光氧氣分析系統(tǒng)成功應(yīng)用于氫化尾氣氧含量監(jiān)測，有效避免了氧含量過高引發(fā)的爆炸風(fēng)險。

主要技術(shù)原理及特點：

  • 激光氣體分析儀測量原理：利用半導(dǎo)體激光吸收光譜技術(shù)，通過發(fā)射特定波長的激光束，測量激光強(qiáng)度在被測氣體中的衰減程度，從而**計算氣體濃度。

  • 單線光譜技術(shù)：選擇特定波長的吸收光譜線，避免背景氣體組分的交叉吸收干涉，確保測量準(zhǔn)確性。

  • 激光頻率掃描技術(shù)：通過周期性調(diào)制激光頻率，掃描被測氣體吸收譜線，自動修正粉塵和視窗污染對測量的影響。

  • 譜線展寬自動修正技術(shù)：根據(jù)氣體溫度和壓力的變化，自動修正譜線展寬及高度對測量的影響，確保數(shù)據(jù)**性。

ADEV激光氧氣分析系統(tǒng)具有以下顯著特點：

  • 檢測靈敏度高，響應(yīng)速度快，能夠?qū)崟r反映氣體濃度變化。
  • 一體化設(shè)計，結(jié)構(gòu)緊湊，可靠性高，適用于各種惡劣工業(yè)環(huán)境。
  • 曲線圖設(shè)計，直觀展示吸收波線性情況，便于操作與維護(hù)。
  • 智能化程度高，操作簡便，維護(hù)方便，大大降低了運行成本。

主要技術(shù)指標(biāo)：ADEV激光氧氣分析系統(tǒng)在雙氧水生產(chǎn)裝置中的革新應(yīng)用

  • 光通道長度：小于15米
  • 響應(yīng)時間：小于1秒
  • 線性誤差：≤±1%F.S.
  • 量程漂移：≤±1%F.S./6個月
  • 重復(fù)性誤差：≤±1%F.S.
  • 維護(hù)周期：3-6個月一次（僅需清潔光學(xué)視窗，無消耗品）
  • 標(biāo)定周期：3-6個月一次
  • 防護(hù)等級：IP66
  • 防爆等級：Exd Ⅱ CT6 Gb

綜上所述，ADEV激光氧氣分析系統(tǒng)在雙氧水生產(chǎn)裝置中的應(yīng)用，不僅提高了氧含量的檢測精度與響應(yīng)速度，還有效降低了**事故風(fēng)險，為雙氧水生產(chǎn)的可持續(xù)發(fā)展提供了有力保障。

更多ADEV激光氧氣分析系統(tǒng)在雙氧水生產(chǎn)裝置中的革新應(yīng)用信息請直接致電埃登威上海公司18939876302

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